- 信息報(bào)價(jià)
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我們生產(chǎn)的4N銀顆粒成分檢測(cè)表：標(biāo)準(zhǔn)要求實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)Ag（%）≥99.9999.9961Pb≤0.0010.0005Cu≤0.00250.001Sb≤0.0010.0005Bi≤0.00080.0005Fe≤0.0010.0005Pd≤0.0010.0003Se≤0.00050.0003Te≤0.00080.0..12月16日 -
980.00元鈦鋁合金靶材我們能提供的成分：TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl 30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%等...我們能提供的純度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%我們的..12月14日
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400.00元鐵的顏色是金屬灰色，具有延展性、鐵磁性，熔點(diǎn)為1535°C，密度為7.86g/cm3，廣泛純?cè)谟诖罅康漠a(chǎn)品中，包括工具、汽車和機(jī)器等，鐵還具有生物重要性，因?yàn)樗?fù)責(zé)血液中的氧運(yùn)輸，它在真空下蒸..12月01日
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1.00元濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子12月10日
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濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子10月28日
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1.00元高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..09月18日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..08月27日
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產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛08月17日
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鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光09月12日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..09月12日
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旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動(dòng)的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動(dòng)。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)08月16日
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旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動(dòng)的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動(dòng)。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)08月04日
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1260.00元我們是專業(yè)生產(chǎn)靶材的工廠，鎳鉻靶是我們工廠接單最多的產(chǎn)品，我們各種純度、形狀、成分的鎳鉻靶都可以定制。我們能提供的成分：NiCr7 wt%、NiCr10 wt%、NiCr20 wt%、NiCr30 wt%、 NiCr40 at%..12月15日
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100.00元高純磁控濺射貴金屬鈀(Pd)鍍膜靶材及鉑合金，鈀粒，鈀板，鈀金，鈀銀合金板，鈀管旋轉(zhuǎn)靶 貴金屬靶產(chǎn)品總述： 隨著靶材在磁記錄介質(zhì)、電子半導(dǎo)體、薄膜太陽(yáng)能及平面顯示等產(chǎn)業(yè)的發(fā)08月15日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..06月01日
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旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動(dòng)的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動(dòng)。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)06月01日
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旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動(dòng)的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動(dòng)。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)11月08日
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旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動(dòng)的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動(dòng)。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)10月22日
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945.00元碳化鎢靶材是一種由高純鎢和碳為原料構(gòu)成的靶材，顏色為黑色六方，有金屬光澤，硬度與金剛石相近，為電、熱的良好導(dǎo)體，碳化鎢不溶于水、鹽酸和硫酸，易溶于硝酸-氫氟酸的混合酸中，純的碳化..12月17日
黃頁(yè)88網(wǎng)提供2025最新顯示屏鍍膜靶材價(jià)格行情，提供優(yōu)質(zhì)及時(shí)的顯示屏鍍膜靶材圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場(chǎng)價(jià)格表的產(chǎn)品報(bào)價(jià)來源于共3家顯示屏鍍膜靶材批發(fā)廠家/公司提供的209450條信息匯總。
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