刻蝕設(shè)備信息我要推廣到這里
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中國(guó)濕法刻蝕設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展態(tài)勢(shì)與前景趨勢(shì)分析報(bào)告2021-2027年......................................報(bào)告編號(hào))459685[出版日期] 2021年9月[出版機(jī)構(gòu)] 產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)研究院[交付方式] 電子版或特快..09月04日
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NRE-4000(A)全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕概述:NRE-4000是一款立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),此款刻蝕機(jī)配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13\"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶..09月02日
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NDR-4000(A)全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕概述:全自動(dòng)上下載片,帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8" ICP源。系統(tǒng)可以配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝壓力達(dá)到幾..09月02日
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16000.00元【溫馨提示】 請(qǐng)客戶在購(gòu)買前聯(lián)系客服,價(jià)格根據(jù)客戶所需設(shè)備規(guī)格和售后服務(wù)條件將有所調(diào)整,請(qǐng)了解清楚設(shè)備詳情后再進(jìn)行下單操作,謝謝您的理解和配合! 深圳金鉑利萊..09月28日
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200000.00元設(shè)備名稱:濕法刻蝕設(shè)備 設(shè)備形式:室內(nèi)放置型 設(shè)備種類:?jiǎn)纹涛g、槽式刻蝕 操作方式:手動(dòng)/自動(dòng) 每批最大處理量:50片 單槽清洗量:50片/2盒 被清洗硅片尺寸:3寸 / 4寸/5寸/6寸/8寸09月04日
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NIE-4000(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而ibe離子束刻蝕通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,..09月02日
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20000.00元?刻蝕機(jī)?是用于芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備,主要負(fù)責(zé)在芯片制造過程中執(zhí)行“刻蝕”這一步驟。刻蝕是芯片制造中與光刻緊密相連的一個(gè)步驟,通過化學(xué)或物理方法對(duì)襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕..08月19日
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31000.00元刻蝕機(jī),也稱為蝕刻機(jī),在電子行業(yè)、半導(dǎo)體制造工藝中得到廣泛應(yīng)用,主要用于將圖案、印刷電路等有機(jī)材料蝕刻成所需形狀,從而制作出微型電路板、集成電路和 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等。 刻蝕..07月12日
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200000.00元蝕刻機(jī)主要是通過將待刻蝕的材料用化學(xué)液淋在一起,通過化學(xué)反應(yīng)將材料表面形成凹凸不平的效果。根據(jù)不同的應(yīng)用場(chǎng)景,可以采取不同的化學(xué)液蝕刻材料表面。 1. 硅片加工 硅片是集成電路的重..07月04日
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蝕刻機(jī),顧名思義,就是通過化學(xué)反應(yīng)來將材料表面進(jìn)行刻蝕的機(jī)器。一些特定的材料如玻璃、石英、硅等,都可以通過蝕刻機(jī)對(duì)其進(jìn)行微米級(jí)別的凹凸加工。 1. 硅片加工 硅片是集成電路的重要組..07月04日
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80000.00元【溫馨提示】 請(qǐng)客戶在購(gòu)買前聯(lián)系客服,價(jià)格根據(jù)客戶所需設(shè)備規(guī)格和售后服務(wù)條件將有所調(diào)整,請(qǐng)了解清楚設(shè)備詳情后再進(jìn)行下單操作,謝謝您的理解和配合!01月08日
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80000.00元【溫馨提示】 請(qǐng)客戶在購(gòu)買前聯(lián)系客服,價(jià)格根據(jù)客戶所需設(shè)備規(guī)格和售后服務(wù)條件將有所調(diào)整,請(qǐng)了解清楚設(shè)備詳情后再進(jìn)行下單操作,謝謝您的理解和配合!01月08日
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中國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀動(dòng)態(tài)與投資發(fā)展規(guī)劃建議報(bào)告2024-2030年【報(bào)告編號(hào)】: 432754【出版時(shí)間】: 2024年7月【出版機(jī)構(gòu)】: 中研智業(yè)研究院【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞 【報(bào)告價(jià)格】:【..09月04日
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2024-2030年與中國(guó)化合物半導(dǎo)體用刻蝕設(shè)備市場(chǎng)趨勢(shì)分析及發(fā)展?jié)摿ρ芯繄?bào)告*+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* 《對(duì)接人員》:【張煒】 《修訂日期》:【2024年..09月04日
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2024-2030年與中國(guó)SiC碳化硅刻蝕設(shè)備市場(chǎng)運(yùn)營(yíng)態(tài)勢(shì)及前景發(fā)展空間研究報(bào)告*+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* *+* 《對(duì)接人員》:【張煒】 《修訂日期》:【2024年6..09月04日
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進(jìn)口報(bào)關(guān)舊刻蝕設(shè)備的流程是一個(gè)相對(duì)復(fù)雜的過程,涉及多個(gè)環(huán)節(jié)和多個(gè)部門的協(xié)作。下面將詳細(xì)介紹進(jìn)口報(bào)關(guān)舊刻蝕設(shè)備的流程,以幫助讀者更好地了解這一過程。 ,進(jìn)口商需要與國(guó)外的供應(yīng)商進(jìn)..04月28日
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進(jìn)口報(bào)關(guān)舊刻蝕設(shè)備的流程是一個(gè)相對(duì)復(fù)雜的過程,涉及多個(gè)環(huán)節(jié)和多個(gè)部門的協(xié)作。下面將詳細(xì)介紹進(jìn)口報(bào)關(guān)舊刻蝕設(shè)備的流程,以幫助讀者更好地了解這一過程。 ,進(jìn)口商需要與國(guó)外的供應(yīng)商進(jìn)..04月26日
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進(jìn)口清關(guān)舊刻蝕設(shè)備的詳細(xì)注意事項(xiàng) 一、前言 在科技日新月異的今天,半導(dǎo)體和微電子產(chǎn)業(yè)在推動(dòng)社會(huì)進(jìn)步中發(fā)揮著越來越重要的作用。作為這些產(chǎn)業(yè)中不可或缺的一環(huán),刻蝕設(shè)備在制造、的芯..04月26日
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23000.00元刻蝕機(jī)是一種通過化學(xué)或物理手段將某些材料表面局部去除的設(shè)備,從而獲得所需的細(xì)微結(jié)構(gòu)或器件??涛g機(jī)在微電子、納米技術(shù)、生物芯片等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。 刻蝕機(jī)主要通過在目標(biāo)材料表面進(jìn)行..07月17日
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一、 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備自動(dòng)滅火裝置是消防行業(yè)的一個(gè)---發(fā)明。作為一套小型、---且高度的獨(dú)立自動(dòng)滅火系統(tǒng),它可依靠煙感,溫感,以及火焰三種探測(cè)方式對(duì)設(shè)備進(jìn)行火災(zāi)..09月08日
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