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半導(dǎo)體硅片清洗機(jī) 高速離心二流體清洗機(jī) 晶圓清洗機(jī)半導(dǎo)體硅片清洗機(jī) 高速離心二流體清洗機(jī) 晶圓清洗機(jī) 單片晶圓清洗機(jī),用于攝像頭類產(chǎn)品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗,旋轉(zhuǎn)..09月05日
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全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)有效去除硅片晶圓表面的微塵顆粒物全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)有效去除硅片晶圓表面的微塵顆粒物 晶圓離心清洗機(jī)的特點(diǎn):全自動(dòng)晶圓離心清洗機(jī)可更換清洗吸盤,可使用4-12英寸的清洗..09月05日
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半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)二流體離心清洗機(jī)半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)二流體離心清洗機(jī) 晶圓清洗機(jī)采用的定位系統(tǒng)和機(jī)械手,確保晶圓在清洗過(guò)程中的位置準(zhǔn)確和穩(wěn)定,避免因微小偏差導(dǎo)致的清洗不均或損..09月05日
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二流體離心清洗機(jī),半導(dǎo)體晶圓晶粒離心清洗機(jī)往復(fù)式清洗設(shè)備二流體離心清洗機(jī),半導(dǎo)體晶圓晶粒離心清洗機(jī)往復(fù)式清洗設(shè)備 二流體離心清洗機(jī)清洗對(duì)象:1、清洗對(duì)象:諦化鉍圓晶晶粒半導(dǎo)體..09月05日
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整機(jī)采用高品質(zhì)零部件,所用加工部件都使用高強(qiáng)度鋁合金及304不銹鋼制造,確保設(shè)備的耐久性;溫度控制器件采用原裝宇電數(shù)顯PID人工智能溫控儀。以的產(chǎn)品質(zhì)量和精湛的技術(shù)服務(wù)受到了用09月02日
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擴(kuò)晶機(jī)產(chǎn)品說(shuō)明 一、鑫誠(chéng)牌LED擴(kuò)晶機(jī)/擴(kuò)張機(jī)--機(jī)器用途: 擴(kuò)晶機(jī)也叫晶片擴(kuò)張機(jī)或擴(kuò)片機(jī)。被廣泛應(yīng)用于發(fā)光二極管、中小功率三極管、背光源、LED、集成電路和一些特殊半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中09月02日
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半導(dǎo)體晶圓包裝機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域: ??半導(dǎo)體、光電產(chǎn)品、電子元器件、芯片、晶圓等進(jìn)行真空、充氣封口包裝的外抽式真空包裝機(jī)。大特點(diǎn)是不受包裝物大小及體積的限制,任意進(jìn)行真空或充氮?dú)猓ɑ蚱渌?.08月13日
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1100.00元前開(kāi)式晶圓傳送盒(FOUP)指用于傳送、保護(hù)并存儲(chǔ)晶圓的晶圓載具,其內(nèi)部含有前開(kāi)式容器,可容納25片晶圓。與其他晶圓載具相比,前開(kāi)式晶圓傳送盒具有能提高晶圓產(chǎn)量、提升晶圓良品率、無(wú)靜電..12月20日
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6寸晶圓無(wú)塵烘箱 70L晶圓無(wú)塵箱 聯(lián)網(wǎng)無(wú)塵烘箱 半導(dǎo)體封裝是指將通過(guò)測(cè)試的晶圓按照產(chǎn)品型號(hào)及功能需求加工得到獨(dú)立芯片的過(guò)程。封裝過(guò)程為:來(lái)自晶圓前道工藝的晶圓通過(guò)劃片工藝后被切06月18日
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8寸晶圓class100可聯(lián)網(wǎng)封裝專用無(wú)塵烘箱 MES烘箱 工廠系統(tǒng),選擇烘烤工藝,啟動(dòng)/停止烘箱; 2.>?工廠系統(tǒng)根據(jù),過(guò)程判斷待烤料件工位,記錄反饋工位信息; 3.>?系統(tǒng)控制開(kāi)/關(guān)門12月05日
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供應(yīng) UV失粘膜 晶圓切割保護(hù)膜 半導(dǎo)體UV減粘膜 防晶圓崩裂保護(hù)膠帶 產(chǎn)品名稱: UV減粘膠保護(hù)膜 產(chǎn)品詳情 1. 基材厚度:80#,100#,150# 2. 上膠厚度:10um、15um、20um、25um,..10月19日
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5-20V升降壓轉(zhuǎn)5V 3A 大功率升降壓芯片 5-30V自動(dòng)升降壓轉(zhuǎn)12V 4A大功率 外置MOS 外圍電路簡(jiǎn)單 5-35V自動(dòng)升降壓轉(zhuǎn)5-100V 300W大功率 100MA 8-12V轉(zhuǎn)10V 3A升降壓芯片 外圍簡(jiǎn)單 48-55V升壓87V..08月25日
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精密激光加工設(shè)備主要用在 微電子 行業(yè) 攝像頭模組微焊接、硬盤磁頭微焊接、CVM/光通訊元器件/熱敏元件/光敏元件微焊接等 SD卡切割、攝像頭模組切割、指紋模組切割、精密金屬切割、LED03月24日
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中國(guó)半導(dǎo)體晶圓切割設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展前景與投資規(guī)劃分析報(bào)告2023 Vs 2029年 ★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★ 【報(bào)告編號(hào)】:438932 【出版時(shí)間】: 2023年5月 【出版機(jī)構(gòu)】: 華研中商研究院 ..09月05日
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TC Wafer熱電偶、晶圓熱電偶溫度傳感器、晶圓測(cè)溫系統(tǒng),晶圓硅片測(cè)溫?zé)犭娕茧S著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,TC(熱電耦合) Wafer晶圓的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。TC Wafer晶圓具有的熱性能和穩(wěn)定性,但其制造..09月04日
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單片晶圓清洗機(jī) 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備 半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備單片晶圓清洗機(jī) 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備 半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備 晶圓清洗機(jī)設(shè)備參數(shù):09月05日
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硅片清洗機(jī)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)單片晶圓清洗機(jī)廠家硅片清洗機(jī)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)單片晶圓清洗機(jī)廠家 晶圓清洗機(jī)介紹于清洗切制后之品片(Wafor)或玻璃片表面塵高速高心脫水,工件表面無(wú)水痕殘留..09月05日
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高速全自動(dòng)晶圓清洗機(jī) 攝像頭模組 半導(dǎo)體清洗設(shè)備高速全自動(dòng)晶圓清洗機(jī) 攝像頭模組 半導(dǎo)體清洗設(shè)備 工作原理: 二流體清洗:通過(guò)二流體噴嘴特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使液體與氣體均勻混合,形成..09月05日
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全自動(dòng)離心清洗機(jī) 晶圓清洗機(jī) 攝像頭模組清洗機(jī)全自動(dòng)離心清洗機(jī) 晶圓清洗機(jī) 攝像頭模組清洗機(jī) 離心清洗機(jī)簡(jiǎn)介1于清洗切創(chuàng)后之品片【W(wǎng)alor)或玻璃片表面塵2高速高心脫水,工件表面無(wú)水痕殘..09月05日
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半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)全不銹鋼外殼芯片清洗機(jī)晶圓清洗廠家半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)全不銹鋼外殼芯片清洗機(jī)晶圓清洗廠家 設(shè)備簡(jiǎn)介: 本設(shè)備采用二流體+高速離心式轉(zhuǎn)盤的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),于清洗光學(xué)玻璃鏡..09月05日
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