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大型還原爐

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  • 微波氧化石墨烯還原爐石墨鱗片膨化爐
    微波氧化石墨烯還原爐石墨鱗片膨化爐 產(chǎn)品簡介 該產(chǎn)品利用微波的分子震蕩加熱特性使介質(zhì)產(chǎn)生內(nèi)外一致的劇烈升溫從而達(dá)到瞬間膨化的目的,適用于膨脹石墨的制備領(lǐng)域,也同樣適用于
    11月19日
  • 微波氧化石墨烯還原爐青島廠家供應(yīng)
    微波氧化石墨烯還原爐 袁高峰:18661934690 郵箱:ygf_qd@ QQ:957963417 產(chǎn)品簡介 該產(chǎn)品利用微波的分子震蕩加熱特性使介質(zhì)產(chǎn)生內(nèi)外一致的劇烈升溫從而達(dá)到瞬間膨化的目..
    02月27日
  • 多晶硅還原爐燈管多晶硅還原爐紅外線鹵素加熱燈管
    多晶硅還原爐鹵素加熱燈管,多晶硅還原爐紅外線加熱燈管,還原爐硅芯預(yù)熱燈管多晶硅還原爐電氣系統(tǒng)的主要設(shè)備是大功率調(diào)壓器。調(diào)壓器所帶負(fù)載是多晶硅棒串聯(lián)而成的純電阻負(fù)載。調(diào)壓器的作用實..
    02月25日
  • 蘇州高溫?zé)崽幚碓O(shè)備氫氣還原爐
    型號 AF1300-322-H2 用途 工件在氫氣還原氣氛下的熱處理工藝 參數(shù) 內(nèi)部尺寸:D300/W200/H200(mm) 內(nèi)部容積:12L 外形尺寸:D/W/H(mm) 設(shè)備重量:Kg 設(shè)備功率:5Kw ..
    05月22日
  • 氫氣還原爐氫氣熱處理爐氫氣高溫馬弗爐
    型號 AF1300-322-H2 用途 工件在氫氣還原氣氛下的熱處理工藝 參數(shù) 內(nèi)部尺寸:D300/W200/H200(mm) 內(nèi)部容積:12L 外形尺寸:D/W/H(mm) 設(shè)備重量:Kg 設(shè)備功率:5Kw ..
    06月01日
  • 氫氣還原爐
    氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝,也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo): 工作溫度:200—1300 ℃ 加熱元件:..
    11月09日
  • 福潤德氫氣還原爐
    氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝,也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo): 工作溫度:200—1300 ℃ 加熱元件:..
    10月31日
  • 氣氛還原爐,鐘罩式光亮退火爐
    設(shè)備:鐘罩式光亮退火爐,氣氛還原爐 鐘罩式光亮退火爐可廣泛用于有色金屬銅、鋁合金和黑色金屬、普碳鋼、硅鋼、合金鋼等卷帶、盤管、線材等光亮退火。 金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋?/div>
    04月12日
  • 鍋爐脫硝_還原爐脫硝設(shè)備廠家
    鍋爐脫硝_還原爐脫硝設(shè)備廠家 鍋爐產(chǎn)生的氮氧化物一直是客戶頭疼的問題,現(xiàn)在因為提標(biāo)的原因,氮氧化物降到100毫克已經(jīng)不能滿足客戶的需求,那么如何將煙氣NOX降到50毫克以下呢?有的
    09月25日
  • 窯爐脫硝_還原爐脫硝設(shè)備廠家
    窯爐脫硝_還原爐脫硝設(shè)備廠家 鍋爐產(chǎn)生的氮氧化物一直是客戶頭疼的問題,現(xiàn)在因為提標(biāo)的原因,氮氧化物降到100毫克已經(jīng)不能滿足客戶的需求,那么如何將煙氣NOX降到50毫克以下呢?有的
    09月25日
  • 1100℃高真空管式還原爐
    高真空管式爐TF1200-200-HV-T10 產(chǎn)品用途:主要用于稀土制備、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、硬質(zhì)合金、3D打印金屬件(鈦合金TC4、23鈦等)真空熱處理、真
    08月26日
  • 氫氣保護(hù)爐真空氣氛爐箱式氣氛爐氫氣還原爐金屬退火爐
    一、真空氣氛爐概述 本系列產(chǎn)品,使用硅碳棒為加熱元件,型號齊全,安全可靠,同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造,適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶
    10月26日
  • 專業(yè)生產(chǎn)高溫可控氣氛爐氫氣還原爐實驗氣氛箱式爐
    真空氣氛爐 MXQ1750系列 產(chǎn)品用途:適用于電子陶瓷、玻璃、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)。
    06月25日
  • 還原爐氮化硅
    264.00元
    氮化硅陶瓷密封<br> 以硅粉為原料,添加質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的成孔劑 (苯甲酸)球形顆粒,反應(yīng)燒結(jié)制備了氣孔率55%, 具有球形宏觀孔的低密度多孔氮化硅陶瓷研究了 硅粉粒徑對反應(yīng)燒
    04月15日
  • 上海氫氣還原爐真空氫氣燒結(jié)爐不銹鋼光亮退火爐1200度廠家直銷
    氫氣還原爐 A 型號 AF1300-322-H2 用途 工件在氫氣還原氣氛下的熱處理工藝 參數(shù) 內(nèi)部尺寸:D300/W200/H200(mm) 供參考,以實物為準(zhǔn)。 內(nèi)部容積:12L 外形尺寸:D/W/H(mm..
    06月01日
  • 福潤德frd-108全自動氫氣還原爐
    氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝,也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo): 工作溫度:200—1300 ℃ 加熱元
    08月09日
  • 氫氣還原爐,青島福潤德
    氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝,也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo): 工作溫度:200—1300 ℃ 加熱元件:..
    10月31日
  • 粉體石墨烯高溫氧化還原回轉(zhuǎn)爐
    產(chǎn)品名稱:石墨烯氧化還原爐 產(chǎn)品用途:粉體石墨烯制備(氧化還原法) 參數(shù)介紹: 1、使用溫度:0~1100度(非金屬爐管)。 2、升溫速率:低溫段10-20°C/min,高溫段5-10°C/min,根據(jù)工藝進(jìn)行
    11月02日
  • 巨浪環(huán)保60000風(fēng)量還原爐脫硝改造及脫硝催化劑脫硝設(shè)備
           SCR(選擇性催化還原法):SCR技術(shù)是還原劑(NH3、尿素等)在催化劑作用下,選擇性地與NOX反應(yīng)生成N2和H2O,而不是被O2所氧化,故稱為“選擇性”。在SCR技術(shù)的應(yīng)用過程..
    02月16日
  • 粉體顆粒燒結(jié)爐氣氛保護(hù)還原爐雙溫區(qū)管式爐
    產(chǎn)品名稱:氣氛回轉(zhuǎn)爐 粉體顆粒燒結(jié)爐 氣氛保護(hù)還原爐 雙溫區(qū)管式爐 一、產(chǎn)品用途 氣氛回轉(zhuǎn)爐,主要適用于粉體、顆粒在氣氛保護(hù)中的動態(tài)燒結(jié)與還原。動態(tài)燒結(jié)使物料更均勻、品
    09月16日
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