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常見(jiàn)問(wèn)題
保溫柜容積:90L溫度:26-50℃
嵌入式加溫箱容積150L溫度2-48℃
福意聯(lián)醫(yī)用保溫柜FYL-YS-150L可嵌入式醫(yī)用暖箱
保冷柜溫度:4℃有效容積:79L
美國(guó)光刻膠刻蝕工藝負(fù)性光刻膠NR9-3000P粘附性能好
廈門光刻膠 美國(guó)光刻膠?附著力特性?:NR9系列光刻膠具有?增強(qiáng)的附著力?,特別適用于濕刻和電鍍應(yīng)用在電鍍和刻蝕工藝中表現(xiàn)出?的粘附力?,能有效防止光刻膠剝離25°C環(huán)境下仍保持良好剝離性能,便于工藝后處理?耐溫性能?:耐溫性可達(dá)150°C在低于120°C的處理溫度
2025年09月07日 16:51:52
美國(guó)光刻膠KMPR系列耐溶劑耐水型光刻膠
廈門光刻膠 美國(guó)光刻膠KMPR系列光刻膠是一種專為耐溶劑和耐水性能優(yōu)化的光刻膠產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和微電子加工領(lǐng)域。該系列光刻膠以其的化學(xué)穩(wěn)定性和工藝性能著稱,特別適用于需要高耐化學(xué)性的應(yīng)用場(chǎng)景。?應(yīng)用類型?:支持臨時(shí)或性應(yīng)用?膜厚范圍?:2-7
2025年09月07日 16:31:52
美國(guó)光刻膠SU-8去膠液RemoverPG除膠劑
廈門光刻膠 美國(guó)光刻膠對(duì)SU-8等厚膜光刻膠溶解能力強(qiáng)對(duì)基材兼容性好,損傷小可去除灰化后的光刻膠需配合IPA沖洗去除殘留應(yīng)用領(lǐng)域半導(dǎo)體制造中的光刻膠去除微電子器件加工微納結(jié)構(gòu)制作科研實(shí)驗(yàn)中的光刻膠處理
2025年09月07日 16:32:12
美國(guó)光刻膠BOE金屬蝕刻液規(guī)格款式
廈門光刻膠 美國(guó)光刻膠?標(biāo)準(zhǔn)型BOE?:6:1配比:蝕刻速率約10 nm/s10:1配比:平衡蝕刻速率與選擇性20:1配比:蝕刻速率約2-3 nm/s,SiO?/Si選擇比>100:1?功能增強(qiáng)型?:含表面活性劑配方:改善對(duì)深孔、高深寬比結(jié)構(gòu)的滲透能力環(huán)保型配方:降低毒性,簡(jiǎn)化廢液處
2025年09月07日 16:05:26
美國(guó)光刻膠LOL2000進(jìn)口光刻膠及替代膠配套顯影增粘稀釋液
廈門光刻膠 美國(guó)光刻膠LOL 2000光刻膠需要配合以下化學(xué)品使用:?顯影液?:AZ系列顯影劑(具體型號(hào)需確認(rèn))?增粘劑?:HMDS?清洗劑?:去離子水、IPA等?剝離液?:AZ剝離液應(yīng)用領(lǐng)域半導(dǎo)體芯片制造微電子器件加工微納結(jié)構(gòu)制作2D材料集成器件制造
2025年09月07日 15:55:43
美國(guó)光刻膠DOWBCB4022-35光刻膠半導(dǎo)體表面活性劑
廈門光刻膠 美國(guó)光刻膠負(fù)性光敏特性,曝光區(qū)域發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)高深寬比特性,光刻后能達(dá)到非常好的陡直度基本垂直于襯底表面,適合精細(xì)結(jié)構(gòu)加工?工藝性能?:需要配合HMDS增粘劑使用以提高附著力適用于單步集成2D材料到器件的工藝響應(yīng)速度快,
2025年09月07日 15:40:06
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保溫柜有效容積150升溫度2-48℃
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手術(shù)室嵌入式保溫柜150L溫度2-48℃開(kāi)孔尺寸600*860
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手術(shù)室埋入墻體保暖柜